檢測(cè)項(xiàng)目
動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜分析(D-SIMS)
1. 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜技術(shù)
二次離子質(zhì)譜技術(shù)(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,D-SIMS)是一種非常靈敏的表面分析技術(shù),通過(guò)用一次離子激發(fā)樣品表面,打出極其微量的二次離子,根據(jù)二次離子的質(zhì)量來(lái)測(cè)定元素種類,具有極高分辨率和檢出限的表面分析技術(shù)。D-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三維樣品的元素結(jié)構(gòu)信息,其特點(diǎn)在二次離子來(lái)自表面單個(gè)原子層(1nm以內(nèi)),僅帶出表面的化學(xué)信息,具有分析區(qū)域小、分析深度淺和檢出限高的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于物理,化學(xué),微電子,生物,制藥,空間分析等工業(yè)和研究方面。
2. 動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜分析(D-SIMS)可為客戶解決的產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題
(1)當(dāng)產(chǎn)品表面存在微小的異物,而常規(guī)的成分測(cè)試方法無(wú)法準(zhǔn)確對(duì)異物進(jìn)行定性定量分析,可選擇D-SIMS進(jìn)行分析,D-SIMS能分析10nm直徑的異物成分。
(2)當(dāng)產(chǎn)品表面膜層太薄,無(wú)法使用常規(guī)測(cè)試進(jìn)行膜厚測(cè)量,可選擇D-SIMS進(jìn)行分析,利用D-SIMS測(cè)量1nm的超薄膜厚。
(3)當(dāng)產(chǎn)品表面有多層薄膜,需測(cè)量各層膜厚及成分,利用D-SIMS能準(zhǔn)確測(cè)定各層薄膜厚度及組成成分。
(4)當(dāng)膜層與基材截面出現(xiàn)分層等問(wèn)題,但是未能觀察到明顯的異物痕跡,可使用D-SIMS分析表面超痕量物質(zhì)成分,以確定截面是否存在外來(lái)污染,檢出限高達(dá)ppb級(jí)別。
(5)摻雜工藝中,摻雜元素的含量一般是在ppm-ppb之間,且深度可達(dá)幾十微米,使用常規(guī)手段無(wú)法準(zhǔn)確測(cè)試摻雜元素從表面到心部的濃度分布,利用D-SIMS可以完成這方面參數(shù)測(cè)試。
3. 動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜分析(D-SIMS)注意事項(xiàng)
(1)樣品最大規(guī)格尺寸為1cm,1cm,0.5cm,當(dāng)樣品尺寸過(guò)大需切割取樣,樣品表面必須平整。
(2)取樣的時(shí)候避免手和取樣工具接觸到需要測(cè)試的位置,取下樣品后使用真空包裝或其他能隔離外界環(huán)境的包裝, 避免外來(lái)污染影響分析結(jié)果。
(3)D-SIMS測(cè)試的樣品不受導(dǎo)電性的限制,絕緣的樣品也可以測(cè)試。
(4)D-SIMS元素分析范圍H-U,檢出限ppb級(jí)別。
4.應(yīng)用實(shí)例
樣品信息:P92鋼陽(yáng)極氧化膜厚度分析。
分析結(jié)果:氧化膜厚度為20nm,從表面往心部成分分布:0-4nmFe2O3,4-9nmFe3O4,9-15nm(Fe.Cr)3O4,15-20nm合金化混合區(qū)。